Micron Technology Gelar Upacara Peletakan Batu Pertama untuk Ekspansi Pabrik di Hiroshima

Raksasa semikonduktor asal Amerika Serikat, Micron Technology, memulai pekerjaan ekspansi di pabriknya di Prefektur Hiroshima untuk memproduksi massal semikonduktor mutakhir bagi AI generatif dan aplikasi lainnya. Upacara peletakan batu pertama digelar pada Sabtu.

Micron saat ini memproduksi semikonduktor memori DRAM di pabriknya di Kota Higashihiroshima. Menurut Kementerian Ekonomi, Perdagangan, dan Industri Jepang, perusahaan itu berencana memproduksi massal semikonduktor mutakhir untuk AI generatif dan aplikasi lain, serta akan menginvestasikan sekitar 1,5 triliun yen, atau sekitar 9,3 miliar dolar AS, untuk ekspansi pabrik dan pekerjaan terkait.

Kementerian tersebut akan memberikan subsidi hingga 536 miliar yen, atau sekitar 3,3 miliar dolar AS.

Dalam sambutannya pada upacara itu, Menteri Industri Akazawa Ryosei mengatakan semikonduktor bukan hanya mendukung terwujudnya DX dan GX, tetapi juga merupakan material strategis yang sangat penting dari sudut pandang keamanan ekonomi.

Micron menyatakan pembangunan fasilitas pabrik akan dilakukan secara bertahap, dengan pemasangan peralatan manufaktur semikonduktor dijadwalkan mulai pada paruh kedua 2028.

Setelah upacara, Akazawa mengatakan permintaan semikonduktor diperkirakan akan tumbuh pesat seiring dunia memasuki era AI. Ia menambahkan bahwa pembentukan basis manufaktur semikonduktor di dalam negeri, termasuk DRAM, serta sistem pasokan yang stabil sangat penting.